TOK 4186.T [JP]
TOK（4186.T） · JP 在 4 個供應鏈節點被引用，跨 4 個主題：先進製程、CoWoS、HBM、半導體材料。
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- 光阻 Photoresist 市佔／地位：EUV Top 3
EUV/ArF 光阻三強之一，先進節點 EUV 圖形化材料主供，供 TSMC/Samsung/Intel，光阻認證週期 18–24 月造就日系高黏著寡占
- 光阻 / 顯影 / BARC 市佔／地位：整體 ~30% 第一
半導體光阻整體全球第一(~30%)、EUV 光阻日系 >95% 的核心供者；與 Intel 共同開發 sub-2nm 光阻，供 TSMC/三星，FY2025 營收+17.9% 創高、赴韓建廠就近供三星/海力士