ADEKA 4401.T [JP]
ADEKA（4401.T） · JP 在 2 個供應鏈節點被引用，跨 2 個主題：先進製程、半導體材料。
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- 特用氣體 / 前驅物 市佔／地位：高 k 前驅物領導
高 k 介電 HfO₂ 系 ALD 前驅物領導，是 GAA 閘極堆疊逐層沉積的關鍵化學品，供先進晶圓廠、材料純度決定漏電與可靠度
- ALD/CVD 前驅物 / high-k 市佔／地位：先進記憶體 high-k >50%
領導(受挑戰)：先進記憶體 high-k 介電材料全球 >50%、三星約 80% 鉿(Hf)前驅物向其採購；但已非獨家——因 TCLC 核心專利遭韓國法院判有效、握韓國授權的 SK trichem 已切入、三星 2025 起把約 20% Hf 前驅物轉向 SK trichem；DRAM 電容縮微(<10nm)剛需仍是 high-k 沉積隱形咽喉，惟專利與去日化正鬆動其獨佔