Fujifilm 4901.T [JP]
Fujifilm（4901.T） · JP 在 3 個供應鏈節點被引用，跨 3 個主題：先進製程、CoWoS、半導體材料。
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- 光阻 Photoresist 市佔／地位：EUV Top 5
日系光阻四強其餘三家，EUV/ArF 光阻各據利基，四強合計 ~76%，供全球先進晶圓廠、日本壟斷 2nm 圖形化最強鎖喉之一
- CMP 耗材 (slurry/pad) 市佔／地位：Cu slurry ~31%
銅研磨液（Cu slurry）全球第一（~31%），TSV/RDL 銅平坦化關鍵耗材，與 Fujimi 為不同公司、勿混淆
- 光阻 / 顯影 / BARC 市佔／地位：光阻五強
住友化學/Fujifilm 為日系光阻五強尾段、美 DuPont 補 ArF/KrF 與顯影配套；填補 EUV 外的 DUV 光阻與顯影液需求，供全球邏輯/記憶體 fab