Entegris ENTG [US]
Entegris（ENTG） · US 在 6 個供應鏈節點被引用，跨 4 個主題：先進製程、CoWoS、半導體材料、電子特氣/WF6。
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- CMP 耗材 / 濕製程化學 市佔／地位：slurry ~23%
CMP 研磨液(slurry)全球第一(~23%)，並整合過濾/氣體輸送純化，供先進晶圓廠銅/鎢/介電研磨、材料純度直接影響刮傷缺陷與良率
- 光阻 / 顯影 / BARC 市佔／地位：MOR 前驅物/過濾
2026/5/27 與 JSR/Inpria 簽 EUV MOR 專利非獨家交互授權+撤訴+合作開發、切入下世代金屬氧化物光阻陣營 - CMP 研磨液 / 研磨墊 市佔／地位：slurry ~23%
併 Cabot(CMC)後 slurry 全球第一(~23%)、於 TSMC/三星各先進節點全認證嵌入，兼 CMP/過濾/沉積材料一站式綁定；換料需製程重驗證是護城河